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  • 苏州纽姆特科技有限公司-设备产品

    一、流化床气相沉积反应器(FB-CVD)
    型号:FBCVD-20 3kg实验设备、FBCVD-100 20kg中试级设备、FBCVD-500 100kg量产级设备。
    功能介绍:将多孔粉末放在锥形或圆柱形底部形成多孔颗粒状固体层,抽出真空,然后利用气体通过多孔颗粒状固体层使其成为悬浮运动状态,随着气体流速增加,颗粒状固体层运动剧烈空隙增大,并附着在多孔微小颗粒固体,然后停止加入气体,沉积形成,再通过其他气体进行重复反应得到多孔状产品。
    使用载气或反应气体种类:H2、O2、N2、Ar、CH4、C2H2等。
    粉体材料种类:多孔碳、碳纳米管、催化剂、陶瓷材料、贵金属粉末、医药颗粒或者粉末、石墨、硅和金属氧化物等。
    料尺寸要求:≥1μm
    优点:①传热和传质系数高,比传统的固定床和移动床高一个数量级以上。
    ②反应区温度均匀,强热效反应扩散和热补充有非常明显的优势。
    ③温度控制均匀比固定床在控温反应的温度精度是不可替代的。
    ④单位产能大,能效和接触充分,生产能力远远大于固定床反应器。
    ⑤反应区质点均处于流动态,物料的添加和卸除很容易,有效降低能耗,提高生产效率。
    ⑥设备自动化控制,接近于商业化设备,提供性能稳定性。
    ⑦设备一体化设计,满足防爆需求。
    二、流化床喷雾纳米包覆(FB-SDNC)
    功能介绍:将可溶性包覆物进行溶解然后用喷雾进行液相喷雾,对在载气中是完全流化态的物料进行包覆,沉积得到固体状。两种技术相互融合,从而提高产业化的材料包覆能力,还能达到改性目的。
    使用载气或反应气体种类:N2、Ar和空气等。
    材料尺寸要求:≥1μm。
    反应系统操作温度:≤150℃。
    喷雾操作温度:<300℃。
    粉体材料种类:石墨、金属氧化物、金属粉和陶瓷粉体材料等。
    优点:①流化床加上更细小的雾滴包覆更加均匀。
    ②包覆物的选择更加广泛。
    ③可实现连续化生产,产能大于传统的固定床反应器。
    ④设备自动化控制,降低人工操作要求,提高品质稳定性。
    三、粉体原子层沉积设备(PALD)
    功能介绍:粉体以单层原子的沉积物沉积在基体内表面进行化学吸附和反应。ALD可以实现原子级精度的均匀沉积,特别适合高深宽比的沉积工艺,所以ALD技术比传统的ALD适用面广,传统的ALD只用在片材的沉积工艺,半导体和光伏等先进制造业无法适用。
    优点:①沉积工艺精度远高于普通CVD的沉积精度,可达到0.1nm,具有自限性。
    ②沉积厚度可以通过原子沉积层数任意调节,具有高度可控性。
    ③满足高深宽比材料,可以对于表面不规则的材料,而且ALD沉积层为单原子层比传统的CVD工艺沉积更均匀。
    ④可以用独特设计的流化床让粉体材料在反应器里形成流化体,与沉积气体充分反应,实现超均匀包覆,具有高度各向同性。
    ⑤沉积物质的种类多,目前可沉积有氧化铝(AL203)、二氧化硅(SIO₂)、二氧化钦(TiO2)、碳化硅(SiC)等化学物质。
    ⑥反应温度低,ALD工艺的沉积温度通常低于300℃,可适用于热敏性材料或不耐高温的材料(如高镍三元正极材料)。
    ⑦极高的纯度沉积物,ALD工艺沉积在中高真空(<1Torr)与高纯沉积气和载气之间相互切换,没有杂质引入。
    ⑧自动化控制,通过PLC编程控制,结合自动进料系统和检测系统,实现高程度自动化,减少操作人员误差。
    四、碳纳米管相关设备的合作与定制
    公司同时布局碳纳米管两大核心技术方向设备:催化剂合成和CVD气相沉积,协助建设CNT粉体研发和生产设备。
    公司在碳纳米管的CVD气相沉积方面拥有非常丰富的经验,也是国内少数能够根据客户现场布局进行定制设计。
    公司也已经为国内多家企业供货碳纳米管生产线和实验研发设备。

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    江苏·苏州
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